稀土抛光材料研究室成立于2009年，主要结合国家发展需要和行业发展情况，以稀土基高端抛光粉体和抛光液的研制及产业化为目标，研制用于光学镜头、蓝宝石加工、硬盘盘基片、半导体和集成电路等领域的专用高端抛光材料。本研究室以材料的表面平坦化为目标，紧跟市场发展步伐，开发具有自主知识产权的稀土抛光材料（抛光粉/液）; 抛光材料研究室积极申报和承担各级科研计划项目，同时与生产企业开展广泛的合作，目前已与生产企业建成60吨/年的粉体中试生产线一条。
随着液晶显示技术的发展，苹果、三星和华为等国内外通讯巨头公司正在将3D玻璃逐渐取代平面盖板玻璃，光学玻璃用稀土抛光液和集成电路用稀土抛光液急剧增加；本研究室的研究领域如下：
     （1）小粒径、窄分布高端铈基抛光粉体的开发：开发D50在0.1µm、0.2µm、0.5µm、0.8µm和1.0µm等不同型号的精细抛光粉体，在光学和液晶显示领域广泛应用，为下一步抛光液的开发提供技术支撑。
     （2）光学用稀土抛光液的开发：开发D50为0.8µm的高切削率抛光液。
     （3）半导体晶圆用抛光液的开发：开发D50为0.1µm~0.2µm的高切削率抛光液。
     （4）集成电路用稀土抛光液的开发：开发D50为0.08µm的高端精密抛光液。